Tungsten sputtering mål
2. Katalog: Tungsten -produkt
3. Materiale: Tungsten
4. Renhet: større enn eller lik 99,95%
5. Tetthet: 19,3 g\/cm³
6. Form: Plane mål, roterende mål, sputtende mål, kvadratmål, rørmål, tilpasset mål med uregelmessig form.
7. Spesifikasjon: Tilpasset, målvekt mindre enn eller lik 300 kg\/PC -er.
8. Overflate: kaldvalset overflate, kjemisk renset overflate, polert overflate
9. Søknad: Magnetron sputringbelegg
10. Standard: ASTM B760, GB\/T 3875-83
11. Opprinnelsessted: Luoyang, Kina.
Introduksjon
Tungsten-sputringsmålet er materialer med høy renhet som brukes i sputteringsprosessen, en fysisk dampavsetning (PVD) metode anvendt for å avsette tynne filmer på overflater. Tungsten er et metall som er kjent for sitt høye smeltepunkt (omtrent 3422 grader), hardhet og utmerket elektrisk ledningsevne, noe som gjør det til et ideelt materiale for sputtende mål i forskjellige bransjer, for eksempel elektronikk, optikk og halvlederproduksjon.
Funksjoner
Utmerket høye temperaturmotstand
Tungsten har et smeltepunkt på opptil 3422 grader, noe som gir det utmerket høye temperaturmotstand. I tillegg, under sputteringsprosessen, tåler wolframmålet bombardementet av høye energiioner og er ikke lett deformert eller nedbrutt. Dette gjør at wolframmålet kan fungere stabilt i miljøer med høy temperatur og høyenergi.
Korrosjonsmotstand
Tolframmaterialer har god oksidasjon og korrosjonsbestandighet. I høye temperaturer eller kjemiske miljøer kan wolframsputteringsmål effektivt motstå oksidasjon, syre og alkalikorrosjon, noe som sikrer at målet opprettholder god ytelse under flere sputteringsprosesser.
Bredt utvalg av bruk
Våre produkter er mye brukt i halvledere, optoelektronikk, magnetiske materialer og andre felt. I halvlederindustrien brukes wolframtynne filmer i metalliseringsprosessen til integrerte kretsløp. I det optiske feltet brukes wolframtynne filmer til å produsere reflekser eller beleggmaterialer.
Produkt kjemisk sammensetning
|
Wolframmål kjemisk sammensetning |
|||||||||||||||
|
W Innhold (%) |
Urenhetsinnhold (ppm) |
||||||||||||||
|
Ti |
Na |
C |
Ca |
Mg |
Si |
Al |
Som |
Fe |
Ni |
Pb |
P |
Cu |
/ |
/ |
|
|
Større enn eller lik 99,95% |
Mindre enn eller lik 10 ppm |
Mindre enn eller lik 5 ppm |
Mindre enn eller lik 20 ppm |
Mindre enn eller lik 10 ppm |
Mindre enn eller lik 7 ppm |
Mindre enn eller lik 10 ppm |
Mindre enn eller lik 5 ppm |
Mindre enn eller lik 10 ppm |
Mindre enn eller lik 10 ppm |
Mindre enn eller lik 6 ppm |
Mindre enn eller lik 1 ppm |
Mindre enn eller lik 8 ppm |
Mindre enn eller lik 5 ppm |
/ |
/ |
Produktytelsesparametere
|
Wolfram sputtering mål ytelsesparametere |
|
|
Prøvedimensjoner |
12mm × 80mm × 100mm |
|
Renhet |
Større enn eller lik 99,95% (3N5) |
|
Krystallstruktur |
Body-Centered Cubic (BCC) |
|
Kornstørrelse |
43μm |
|
Tetthet |
19,25 g\/cm3 (hofte) |
|
Smeltepunkt |
3410 grad (+ 20 grad) |
|
Kokepunkt |
5900 grad |
|
Termisk konduktivitet |
173 W/(m·K) |
|
Elektrisk konduktivitet |
18.3×10-6 S/m |
|
Termisk ekspansjonskoeffisient |
4.5×10-6/K-1 |
|
Hardhet |
Hv5: 280-310 |
|
Overflatebehandling |
Ra mindre enn eller lik 0. 4μm |
Produktproduksjonsprosess
Populære tags: Tungsten Sputtering Target, China Tungsten Sputtering Target Produsenter, leverandører, fabrikk
Et par
Tungsten gjenget stangDu kommer kanskje også til å like
Sende bookingforespørsel